Tungku Tabung PECVD
Tungku tabung PECVD adalah sistem tungku tabung deposisi fase gas plasma, yang terdiri dari ruang reaksi kuarsa, catu daya frekuensi radio, sistem pencampuran gas multi-saluran, unit vakum, dan sistem kontrol reaksi. Tungku menggunakan bahan serat alumina dengan kemurnian tinggi, dan permukaannya dilapisi dengan lapisan alumina suhu tinggi yang diimpor untuk memperpanjang masa pakai instrumen dan meningkatkan efisiensi pemanasan. Perangkat induksi frekuensi radio dipasang di depan deposisi uap kimia tradisional untuk mengionisasi gas reaksi dan menghasilkan plasma. Aktivitas plasma yang tinggi mempercepat reaksi. Ia memiliki keseragaman dan pengulangan yang baik, dapat membentuk film pada area yang luas, dapat membentuk film pada suhu rendah, memiliki cakupan langkah yang sangat baik, dan mudah untuk mengontrol komposisi dan ketebalan film serta mudah untuk diindustrialisasi. Ini banyak digunakan dalam pertumbuhan film tipis seperti graphene, silikon monoksida, silikon nitrida, silikon oksinitrida, dan silikon amorf (A-SI: H).
| Ukuran tabung tungku (MM) | Suhu pengoperasian (°C) | Gelar vakum | Daya (KW) | Tegangan | Elemen pemanas | Tingkat pemanasan |
| Φ60*2200 | 1100°C | -0,1MPA 10PA 6.67*10- 4PA | 3 | 220/380V | Kawat resistansi | 1-20°C/menit |
| Φ80*2200 | 3 | |||||
| Φ100*2200 | 4 | |||||
| Φ120*2200 | 5 |

-
Pengantar Perlakuan Panas Vakum Perlakuan panas vakum adalah proses metalurgi canggih yang digunakan untuk meningkatkan sifat mekanik dan daya tahan komponen industri. Dengan memanaskan material dalam lingkungan vakum, oksidasi dan kontaminasi diminimalkan, sehingga menghasilkan kinerja material yang presisi dan konsisten. Teknik ini banyak diterapkan di industri seperti dirgantara, otomotif, manufaktur perkakas, dan elektronik. Peningkatan Kekuatan dan Kekerasan Material S...



